logo
İyi fiyat  Çevrimiçi

Ürün ayrıntıları

Created with Pixso. Ev Created with Pixso. Ürünler Created with Pixso.
SiC Substrat
Created with Pixso. Customized SiC Tray:CVD SiC SSiC Flat grooved High thermal conductivity Low coefficient of thermal expansion

Customized SiC Tray:CVD SiC SSiC Flat grooved High thermal conductivity Low coefficient of thermal expansion

Marka Adı: ZMSH
Model Numarası: Özelleştirilmiş SiC Tepsisi
Adedi: 25
Fiyat: Fluctuates with market
Teslim Zamanı: 2-4 hafta
Ödeme Şartları: T/T
Ayrıntılı Bilgiler
Menşe yeri:
Şangay, Çin
Malzeme:
Silisyum Karbür
Ürün Tipi:
Sistem Tepsisi
Şekil:
Yuvarlak, Plaka, Özel
Boyut:
Özelleştirilmiş
Kalınlık:
Özelleştirilmiş
Yüzey İşlemi:
taşlama veya parlatma
Çalışma Sıcaklığı:
≤1600°C
Başvuru:
Yarı İletken Gofret İşleme, CVD/PECVD, Yüksek Sıcaklık İşleme
Ürün Açıklaması
Product Information A Silicon Carbide (SiC) Tray is a high-performance precision ceramic carrier designed for semiconductor wafer processing, high-temperature thermal processing, CVD/PECVD systems, vacuum furnaces, and other demanding industrial environments. Its main functions include: Supporting wafers and process components Positioning wafers during processing Wafer transfer and handling Supporting components during high-temperature processes Serving as a precision ceramic