Ürün ayrıntıları

Ev Ürünler

Yüksek sertlik ve aşınma direnci Mükemmel elektriksel yalıtım İyi termal iletkenlik

Marka Adı:	ZMSH
Model Numarası:	4 inç C planı SSP safir yüzeyler
Adedi:	25
Fiyat:	Fluctuates with market
Teslim Zamanı:	4-9 Hafta
Ödeme Şartları:	T/T

Ayrıntılı Bilgiler

Ürün Açıklaması

Ayrıntılı Bilgiler

Menşe yeri:

Çin

Kristal yönelimi:

C düzlemi / A / R / M

Çap:

2/4/6 inç

Kalınlık:

650±15um

kristal büyüme yöntemi:

KY / EFG / CZ

Yüzey:

Cilalı veya uygulamaya göre

Parlatma tipi:

SSP / DSP

Ürün Açıklaması

Safir substratları hakkında bilgi

Safir substratları, LED'ler ve GaN cihazları için kritik temel malzemelerdir.Biliyonlarca dolar değerinde aşağıda uygulamalar destekler., stratejik ve öncü bir öneme sahip.

Akıntı yukarısı: Yüksek saflıkta alümina (özellikle 4N5 ve üstü), kristal büyütme ekipmanları (Kyropoulos fırınları gibi) ve volfram-molibden termal alanlar.Bazı yüksek kaliteli hammaddeler ve temel ekipmanlar hala kısmen ithalatlara bağımlıdır.

Orta akım: Saphir kristalinin büyümesi → çekirdek ekstraksiyonu → dilimleme → lapping → cilalama → desenli safir substratı (PSS). Bu segment en yüksek teknik engelleri ve katma değeri gösterir.

Aşağı akım: LED yongaları (tüketimin% 80'inden fazlasını oluşturur), tüketici elektroniği (kapak plakaları, kamera bileşenleri), üçüncü nesil yarı iletkenler (GaN gücü / RF cihazları), optik pencereler vb.Aşağı akım uygulamaları geleneksel LED'lerden çeşitlendirilmiş alanlara doğru genişliyor.

4 inç C düzlemli SSP safir substratları, temel olarak Kyropoulos (KY), HEM veya EFG kristal büyüme yöntemleri ile üretilen (0001) kristal yönelimli tek kristal alümina (Al2O3) vafeleridir.SSP Single Side Polished anlamına gelir.: ön epi-hazır yüzey, ultra düşük yüzey kabalığına ulaşmak için son derece hassas cilalanmaya maruz kalırken, arka taraf ince toprak kalır.

Yüksek sertlik ve aşınma direnci Mükemmel elektriksel yalıtım İyi termal iletkenlik

Temel Özellikler

Yüksek saflıklı monokristal safir malzemesi

Bizim safir substratlarımız yüksek saflıklı sentetik tek kristal alümina (Al2O3) 4N5/5N ultra yüksek saflıktan yapılmıştır.Özellikle yüksek standartlı optoelektronik ve yarı iletken üretim ortamları için tasarlanmıştırMalzeme mükemmel termal istikrar, kimyasal inertlik, plazma korozyon direnci ve olağanüstü mekanik sertlik özelliklerine sahiptir.Yüksek sıcaklıkta epitaksi altında istikrarlı fiziksel ve optik performansı korumak, vakum işleme ve zorlu kimyasal süreç koşulları.

Çeşitli cihazlar için çoklu kristal yönlendirme seçenekleri

Sapphire substratları, farklı yarı iletken ve optoelektronik cihaz gereksinimlerine uyacak şekilde ana akım kristal yönelimleriyle mevcuttur.C düzlemli substratlar GaN epitaksi ve LED kitlesel üretimi için optimize edilmiştir; R düzlem altüstleri SOS (Silicon-on-Sapphire) RF ve yüksek hızlı mikroelektronik cihazları destekler; A düzlem ve M düzlem seçenekleri kutupsal olmayan / yarı kutupsal GaN cihazlarına ve özel lazer bileşenlerine hizmet eder.Epitaksyal büyüme kalitesini ve cihaz verimini iyileştirmek için özel açı dışı özellikler mevcuttur.

Ultra hassas cilalama ve düzlük performansı

Farklı işlem senaryolarına uygun olarak SSP (Tek Yanlı Poliş) ve DSP (İki Yanlı Poliş) sınıflarında mevcuttur.Sıkı kontrol edilen TTV ileUltra pürüzsüz, kusursuz yüzey, MOCVD epitaksi büyüme standartlarını mükemmel bir şekilde karşılar, eşit GaN katman çöküşünü ve çip performansının yüksek tutarlılığını sağlar.

Mükemmel Elektriksel ve Optik Özellikler

Safir substratları üstün elektrik yalıtımı ve düşük dielektrik kaybı sağlar, yüksek frekanslı ve güç yarı iletken cihazları için devre müdahalelerini etkili bir şekilde izole eder.Ultra geniş UV-Vis-IR spektral iletim özelliklerine sahiptirler, düşük gazlama oranı ve istikrarlı optik performans, onları optik pencere bileşenleri, hassas optoelektronik ambalajlama ve vakum yarı iletken işlem ortamları için ideal hale getiriyor.

Özelleştirilmiş hassas substrat imalatı

Substrat özellikleri müşteri teknik gereksinimlerine göre tamamen özelleştirilebilir, bunlara şunlar dahildir:

Wafer çapı: 2/3/4/6/8/12 inç
Standart ve özel kalınlık
Kristal yönelimi ve kesin açı dışı
SSP / DSP cilalama modları
Yüzey kabalığı ve düzlük toleransı
Kenar çemberi ve kenar bitirme
Yüzey fonksiyonel desenleme (PSS/NPSS)
Temizlik derecesi ve hassas temizlik işlemi

Fonksiyonel İşleme ve Özel Katma Değerli Hizmetler

Standart çıplak safir substratlara ek olarak, çeşitli müşteri uygulamalarını desteklemek için tam süreç özelleştirilmiş fonksiyonel işleme sağlıyoruz.

PSS / NPSS desenli substrat üretimi
Tam/keçi/halka/çerçeve/yerelleştirilmiş metalleşme (Au/Ti/Cr/Ni kaplama)
Ultra ince wafer dilimleme ve stres hafifletme işleme
Yüksek hassasiyetli kesme, delme ve şekillendirme
Özel yüzey işleme (pürüzsüzleştirme/eğme/kum püskürtme)
Sıkı kalite denetimi ve tam COA sertifikası

Özel Değiştirme ve OEM-Sınıf Altyapı Çözümleri

Müşterilerin çizimlerine, örneklere, ekipman işlem parametrelerine dayalı özel safir altyapı geliştirme ve üretimini destekliyoruz.Mevcut bileşen özellikleri ve ters mühendislik talepleriTüm ürünler, RoHS ve REACH standartlarına uygun olup, yarı iletken süreç yükseltmesi, ekipman eşleştirmesi ve yerel değiştirme projeleri için kararlı, yüksek verimli altyapı çözümleri sağlar.

Tipik Uygulamalar

Sapphire substratları, aşağıdaki cihazlar ve üretim süreçleri için uygulanabilir olan optoelektronik ve yarı iletken endüstrilerinde yaygın olarak kabul edilen temel temel malzemelerdir:

Mavi/yeşil/ultraviyole LED epitaksi ve çip imalatı
Mini LED / Mikro LED yüksek kaliteli ekran cihazı üretimi
GaN tabanlı güç yarı iletkenleri ve RF iletişim cihazları
SOS (Silicon-on-Sapphire) yüksek frekanslı entegre devreler
Otomobil aydınlatması, araçlara monte edilmiş optik elektronik bileşenler
AR/VR optik pencereler ve hassas optik bileşenler
MEMS sensörleri ve mikrofluidik çip taşıyıcıları
Yüksek hassasiyetli optik pencereler ve kızılötesi iletim bileşenleri
Yarım iletken vakum ekipmanları ve düşük gazlama yalıtım parçaları
Yüksek güçlü optoelektronik cihazların ambalajı ve termal yönetim substratları

Sapphire substratları, sabit parti tutarlılığına sahip, ana akım optoelektronik ve yarı iletken senaryoları için ticari olarak seri olarak üretildi.düşük kusur oranı ve mükemmel süreç uyumluluğu.

Ürün Özellikleri

Ürün	Spesifikasyon
Ürün	Safira Alt Ürün / Wafer
Malzeme	Sentetik Sapphire / Al2O3 Tek Kristal
Büyüme Yöntemi	Kyropoulos / Edge-Defined Film-Fed Growth (EFG)
Kristal yapısı	Altgen (α-Al2O3)
Çapraz	2" / 3" / 4" / 6" / 8" veya Özel
Kalınlığı	Özelleştirilmiş (örneğin 430 μm 1000 μm)
Yönlendirme	c düzlem (0001) / a düzlem (11-20) / r düzlem (1-102) / m düzlem (10-10)
Yüzey Dönüşümü	SSP (tek taraflı cilalanmış) / DSP (iki taraflı cilalanmış) / Lapped / Ground
Yüzey kalitesi	MIL-PRF-13830B'ye göre kazma (örneğin, 40/20, 20/10)
TTV (Toplam Kalınlık Değişimi)	≤ 5 μm (veya müşteri gereksinimlerine göre)
Yay / Warp	≤ 10 μm (veya müşteri gereksinimlerine göre)
Kabalık (Ra)	Poliş: ≤ 0,2 nm / Lapped: ≤ 0,5 μm
Kenar Tipi	Birincil düz / düz olmadan (Tam Yuvarlak)
Düz Uzunluk	Özel (SEMI standardı veya müşteri çizimi)
Kenar Profili	Gerektiği gibi çemberlenmiş / yuvarlanmış
Dopant / Saflık	Yüksek saflık (≥ 99,99% Al2O3)
Kaplama	Kaplamamış / AR kaplama / ITO kaplama / Metal kaplama mevcut
Uygulama	LED / Yarım iletken / Optik / RF & Mikrodalga / Saat / Tüketici Elektronikleri

Neden Yarım iletken ve Optoelektronik Uygulamalar için Sapphire Substratları Seçin?

Safir substratları, yarı iletken epitaksi, optoelektronik cihaz imalatı ve mikroelektronik işleme sistemlerinde yaygın olarak kullanılan temel temel malzemelerdir.GaN'in taşıyıcısı olarak hizmet ediyor, ZnO ve diğer epitaksyal katman büyümesi, yüksek sıcaklık, güçlü plazma erozyonu, kimyasal korozyon,ve yüksek frekanslı elektromanyetik alanlar.

Geleneksel silikon, kuvars ve yaygın seramik substrat malzemeleriyle karşılaştırıldığında, yüksek saflıklı tek kristal safir substratları üstün kapsamlı fiziksel ve kimyasal özellikleri birleştirir.Yüksek seviye yarı iletken ve optoelektronik işlemler için onları değiştirilmez hale getirmekTemel avantajları şunlardır:

Aşırı yüksek sıcaklık denge: 2050°C'ye kadar erime noktasına sahip, uzun süreli yüksek sıcaklıklı epitaksi ve kızartma işlemlerinde istikrarlı kristal yapısını ve boyut doğruluğunu korur,Substrat deformasyonunun ve cihaz arızasının etkin bir şekilde önlenmesi.
Çok yüksek mekanik sertlik ve sertlik: 9'luk Mohs sertliği ile, sadece elmasdan sonra, mükemmel aşınma direnci ve yapısal istikrar sağlar, hassas kesim sırasında mekanik hasara ve bükülmeye karşı dayanıklıdır,kazım ve ince film büyümesi.
Üstün kimyasal inertlik: Yarım iletken üretiminde kullanılan çeşitli asidik, alkali ve reaktif süreç gazlarının korozyona dayanıklıdır, kimyasal reaksiyon veya yüzey bozulması yoktur,ultra temiz süreç koşullarını sağlamak.
Mükemmel plazma ve radyasyona direnç: Uzun süreli plazma bombardımanına ve ince film çökme ve kazım süreçlerinde ultraviyole radyasyona dayanıklıdır, düşük yüzey hasar oranı ve istikrarlı performans gösterir.
İzole edici ve dielektrik özellikleri: Yüksek direnç ve düşük dielektrik kaybı ile, yüksek frekanslı ve yüksek güçlü optoelektronik cihazlar için güvenilir bir elektrik yalıtımı sağlar ve sinyal müdahalelerini etkili bir şekilde azaltır.
Yüksek optik geçirgenlik: Ultraviyole, görünür ve kızılötesi bantlarda mükemmel ışık iletimine ulaşır, ışık yayıcı ve fotodetektor cihazlarının hazırlanmasına mükemmel bir şekilde uyarlanır.
Uzun süreli süreç dayanıklılığı: Tekrarlanan ve sıkı yarı iletken üretim süreçlerinde tutarlı yüzey düzlüğünü ve kristal kalitesini korur, substrat değiştirme sıklığını ve üretim maliyetlerini büyük ölçüde azaltır.

Yukarıdaki nedenlerden dolayı, safir substratları, LED epitaksyal levhalar, güç yarı iletken cihazları,Mikrodalga radyo frekansı cihazları ve diğer çekirdek yarı iletken bileşenleri.

Özel Sapphire Substrate Üretimi

Yarım iletken ve optoelektronik ekipmanlar için özel ve standart safir substrat üretimi konusunda uzmanlaştık.endüstriyel üretim ve laboratuvar Ar-Ge için yüksek hassasiyetli özel çözümlere odaklanarakSabit standart özelliklerin sınırlarını kırıp, müşterilerin gerçek süreç parametrelerine tamamen uygun olarak altyapıları özelleştiriyoruz.Ekipman eşleştirme gereksinimleri ve cihaz tasarım standartları.

Kapsamlı özelleştirme seçenekleri, tam süreç altyapısı parametrelerini ve destek yapıları kapsar:

Sapphire Substrate çekirdek parametreleri

Wafer çapı (2/4/6/8 inç ve özel özel boyutlar)
Substrat kalınlığı
Kristal yönelimi (C düzlemi, A düzlemi, R düzlemi, M düzlemi ve özel kristal düzlemleri)
Kenar şekli ve çemberleme özellikleri
Düz / Notk konumlandırma tasarımı
Yüzey kabalığı ve düzlüğü
Çift taraflı/poli bir taraflı gereksinimler
Ultra temiz yüzey işleme ve stres azaltma işleme

Eşleşen Yapı Komponentleri

Substrat taşıyıcı armatür boyutu özelleştirme
Pozisyonlama deliği ve oluk işleme
Metal eşleşen taban ve koltuk yapısı
Montaj ve sabitleme arabirimleri özellikleri
Substrat ve yardımcı parçaların bütünleşik montajı

Müşterilerin doğrudan kurulum ve kullanım ihtiyaçlarını karşılamak için safir substratları ve eşleşen metal / seramik parçalarla monte edilmiş bitmiş entegre bileşenler sağlayabiliriz.

Değiştirme ve ters mühendislik hizmeti

İndirimden çıkarılan safir substratlar, elde edilmesi zor orijinal parçalar ve özel yarı iletken ekipmanları için standart olmayan özel substratlar için,Profesyonel ters mühendislik ve yedek üretim hizmetleri sunuyoruz.Müşteriler değerlendirme ve teklif için aşağıdaki bilgileri sağlayabilirler:

Orijinal ekipman parça numarası
Ayrıntılı teknik çizimler ve parametreler için özellikler
Açık ürün fotoğrafları ve fiziksel örnekler (yeni/kullanılmış)
Ana boyut ve kristal parametresi verileri
Destek ekipman modeli ve parti bilgileri
Özel uygulama senaryoları ve süreç ortamı parametreleri

Profesyonel mühendislik ekibimiz resmi tekliften önce substrat yapısı, kristal performansı, işleme zorluğu ve üretim uygulanabilirliği hakkında kapsamlı bir değerlendirme yapacak.Tüm özelleştirilmiş yedek substratlar süreç uyumluluğu için optimize edilecekSon eşleşme performansı, kullanım etkisinde sıfır farkı sağlamak için müşterilerin gerçek ekipman konfigürasyonu ve üretim süreci standartlarına göre onaylanmalıdır.

Kalite Kontrolü

Tüm safir substratları için tam süreçli hassas kalite denetimi uyguluyoruz.ve hedeflenmiş denetim öğeleri ve tam test raporlarını müşteri proje gereksinimlerine ve endüstri standartlarına göre sağlayabilirTemel denetim içeriği şunları içerir:

Tam boyutlu hassasiyet denetimi (diametre, kalınlık, tolerans kalibrasyonu)
Kristal yönelim doğruluğu tespiti
Yüzey düzlüğü, bükülme ve kabalık testi
Görsel kusur incelemesi (çizikler, çukurlar, çatlaklar, dahiller)
Temizlik ve yüzey stres tespiti
Montaj hassasiyeti ve eşleşen tolerans denetimi
Profesyonel çarpışma karşıtı ve toz geçirmez ambalaj denetimi

Müşteriye gelen malzemelerin doğrulanmasını ve üretim kalitesinin izlenebilirliğini desteklemek için tam test verileri içeren resmi denetim raporları sağlanabilir.

Bir Teklif İçin Hangi Bilgileri Göndermelisiniz?

Doğru fiyatlandırmayı sağlamak ve teslimat döngüsünü kısaltmak için, lütfen aşağıdaki ayrıntılı bilgileri danışma sırasında verin:

Tam ürün teknik çizimleri ve parametreler sayfaları
Substrat çapı, kalınlığı ve tolerans gereksinimleri
Kristal yönelimi ve yüzey işleme standartları
Yüzey finişi, cilalama derecesi ve temizlik şartları
Eşleşen yardımcı bileşenlerin parametreleri (varsa)
Ekipmanın markası, modeli ve destekleyici işlem koşulları
Orijinal OEM parça numarası (mümkünse)
Gerekli miktar ve parti talebi
Özel başvuru süreci ve aşırı çevresel gereksinimler

Tam teknik çizimler mevcut değilse, lütfen parameter testini ve şema değerlendirmesini gerçekleştirmek için ekibimiz için altyapının açık yüksek çözünürlüklü fotoğraflarını ve fiziksel numunelerini sağlayın.

Sık Sorulan Sorular

Safir substratları esas olarak ne için kullanılır?

Sapphire substratları, esas olarak GaN tabanlı LED epitaksyal levhalarda, güç elektronik cihazlarında, mikrodalga RF çiplerinde kullanılan yarı iletken ve optoelektronik cihaz üretimi için temel taşıyıcı malzemelerdir.ultraviyole fotoelektrik cihazlar, yarı iletken plazma işleme ekipmanları ve diğer alanlar, yüksek sıcaklıklı epitaksi, ince film çöküntüsü ve hassas gravür işlemleri için uygundur.

Özel yapılmış bütünleşik altyapı montaj parçaları sağlayabilir misiniz?

Tek safir altüst plakalarının yanı sıra, eşleşen çeşitli armatürler, metal tabanlar,çizimlere ve örnek gereksinimlerine göre konumlandırma bileşenleri ve bitmiş entegre bileşenler, tek bir durak destek tedarik gerçekleştirmek.

Eski ve özel ekipmanlar için yedek substrat üretebilir misiniz?

Evet, çizim tabanlı üretim ve örnek ters mühendisliği de dahil olmak üzere tam hizmetli özel üretim desteği veriyoruz.Fiziksel numuneler ve ekipman bilgileri, ve ekibimiz performansı eşleştirmeyi ve alternatif üretimi tamamlayacak.

Safir substratlarının tüm temel parametreleri özelleştirilebilir mi?

Tüm önemli parametreler alt katman boyutu, kalınlığı, kristal yönelimi, kenar işleme, yüzey kabalığı,Düzlük ve cilalama derecesi, kişiselleştirilmiş Ar-Ge ve üretim ihtiyaçlarını karşılamak için müşteri süreci gereksinimlerine göre tamamen özelleştirilebilir.

Küçük seri ve prototip siparişlerini destekler misiniz?

Evet, prototip geliştirme, laboratuvarda küçük seri testleri, ekipman bakımının değiştirilmesi ve seri üretim seri siparişlerini tam olarak destekliyoruz.Biz özelleştirilmiş parametrelere ve işleme zorluğu göre üretim şeması ve teklif değerlendireceğiz.

Etiketler:

Safir Gofret

SiC Substrat

Safir Optik Pencereler

IC Silikon Gofret

Tel testere makinesi

Sentetik Safir Çubuk

Sigortalı Kuvars Levha

Safir Parçaları

Sentetik Taş

Yarıiletken Ekipmanı

LiNbO3 Gofret

İndiyum Fosfür Gofret

Seramik yüzey

laboratuvar ambalajı

Galyum Nitrür Gofret

GaAs Gofret

Safir Gofret

SiC Substrat

Safir Optik Pencereler

IC Silikon Gofret

Tel testere makinesi

Sentetik Safir Çubuk

Sigortalı Kuvars Levha

Safir Parçaları

Sentetik Taş

Yarıiletken Ekipmanı

LiNbO3 Gofret

İndiyum Fosfür Gofret

Seramik yüzey

laboratuvar ambalajı

Galyum Nitrür Gofret

GaAs Gofret

Ürün ayrıntıları

Yüksek sertlik ve aşınma direnci Mükemmel elektriksel yalıtım İyi termal iletkenlik

Temel Özellikler

Yüksek saflıklı monokristal safir malzemesi

Çeşitli cihazlar için çoklu kristal yönlendirme seçenekleri

Ultra hassas cilalama ve düzlük performansı

Mükemmel Elektriksel ve Optik Özellikler

Özelleştirilmiş hassas substrat imalatı

Fonksiyonel İşleme ve Özel Katma Değerli Hizmetler

Özel Değiştirme ve OEM-Sınıf Altyapı Çözümleri

Tipik Uygulamalar

Ürün Özellikleri

Özel Sapphire Substrate Üretimi

Sapphire Substrate çekirdek parametreleri

Eşleşen Yapı Komponentleri

Değiştirme ve ters mühendislik hizmeti

Kalite Kontrolü

Bir Teklif İçin Hangi Bilgileri Göndermelisiniz?

Sık Sorulan Sorular

özel safir cam

safir substrat

safir optik

Özel safir malzemeleri, vafralar, pencereler, çubuklar ve hassas bileşenler

TGV Sapphire Substrate, yüksek mekanik dayanıklılık için özelleştirilmiş düzen ve hassaslıklı mikro deliklerle