logo
İyi fiyat  çevrimiçi

Ürün ayrıntıları

Created with Pixso. Ev Created with Pixso. Ürünler Created with Pixso.
SiC Substrat
Created with Pixso. Yüksek Güçlü Cihazlar için Yüksek Kaliteli 4H-N Silikon Karbid Substratları (12-Inch/300mm)

Yüksek Güçlü Cihazlar için Yüksek Kaliteli 4H-N Silikon Karbid Substratları (12-Inch/300mm)

Marka Adı: ZMSH
Adedi: 50
Teslim Zamanı: 2-4 HAFTA
Ödeme Şartları: T/T
Ayrıntılı Bilgiler
Menşe yeri:
Şangay, Çin
Politip:
4h
Doping Türü:
N-Tipi
Çap:
300 ± 0,5 mm
Kalınlık:
Yeşil: 600 ± 100 μm / Şeffaf: 700 ± 100 μm
Yüzey Yönü:
4° <11-20> ± 0,5°'ye doğru
Birincil daire:
Çentik / Tam yuvarlak
Çentik Derinliği:
1 – 1,5mm
Toplam Kalınlık Değişimi (TTV):
≤ 10 mikron
Mikro Boru Yoğunluğu (MPD):
≤ 5 adet/cm²
Vurgulamak:

4H-N silisyum karbür alt tabakaları

,

Yüksek güçlü cihazlar için 300mm SiC alt tabaka

,

12 inç silisyum karbür gofret

Ürün Açıklaması
Yüksek Kaliteli 4H-N Silisyum Karbür Alt Tabakalar (12 İnç/300mm) Yüksek Güçlü Cihazlar İçin

1. Kapsamlı Ürün Tanıtımı


Yüksek Güçlü Cihazlar için Yüksek Kaliteli 4H-N Silikon Karbid Substratları (12-Inch/300mm) 0

12 inç (300 mm) Silisyum Karbür (SiC) alt tabakası, geniş bant aralıklı (WBG) yarı iletken teknolojisinde mevcut sınırı temsil eder. Küresel endüstri daha yüksek verimlilik ve daha yüksek güç yoğunluğuna doğru ilerlerken, bu büyük çaplı kristal platform, yeni nesil güç elektroniği ve RF sistemleri için temel temeli sağlar.

Temel Stratejik Avantajlar:

  • Büyük Verim: Geleneksel 150 mm (6 inç) ve 200 mm (8 inç) gofretlere kıyasla, 300 mm formatı sırasıyla 2,2 kat ve 1,5 kat daha fazla kullanılabilir yüzey alanı sunar.
  • Maliyet Optimizasyonu: Tek bir üretim döngüsü başına üretilen çip sayısını en üst düzeye çıkararak "çip başına maliyeti" önemli ölçüde azaltır.
  • Gelişmiş Uyumluluk: Modern, tam otomatik 300 mm yarı iletken üretim hatları (Fabrikalar) ile tam uyumludur ve genel operasyonel verimliliği artırır.

Ürün Sınıfı Teklifleri:

  1. 4H SiC N-tipi Üretim Sınıfı: Yüksek verimli, ticari sınıf güç cihazı üretimi için tasarlanmıştır.
  2. 4H SiC N-tipi Kukla Sınıfı: Mekanik test, ekipman kalibrasyonu ve termal işlem doğrulaması için uygun maliyetli bir çözüm.
  3. 4H SiC Yarı Yalıtkan (SI) Üretim Sınıfı: Aşırı direnç gerektiren RF, radar ve mikrodalga uygulamaları için özel olarak tasarlanmıştır.

2. Derinlemesine Malzeme Özellikleri

4H-N Silisyum Karbür (İletken Tip)

4H-N polimorfu, sağlam fiziksel özellikleri ile bilinen, azot katkılı, altıgen bir kristal yapıdır. Yaklaşık 3,26 eV'luk geniş bir bant aralığı ile şunları sağlar:

  • Yüksek Kırılma Elektrik Alanı: Daha ince, daha verimli yüksek voltajlı cihazların tasarımına olanak tanır.
  • Üstün Termal İletkenlik: Yüksek güçlü modüllerin basitleştirilmiş soğutma sistemleriyle çalışmasını sağlar.
  • Aşırı Termal Kararlılık: 200°C'yi aşan zorlu ortamlarda bile kararlı elektriksel parametreleri korur.
  • Düşük Açık Direnç: SiC MOSFET'ler ve SBD'ler gibi dikey güç yapıları için optimize edilmiştir.

4H-SI Silisyum Karbür (Yarı Yalıtkan Tip)

SI alt tabakalarımız, olağanüstü yüksek direnç ve minimum kristal kusurları ile karakterizedir. Bu alt tabakalar, GaN-on-SiC RF cihazları için tercih edilen platformdur ve şunları sağlar:

  • Mükemmel Elektriksel İzolasyon: Parazitik alt tabaka iletimini ortadan kaldırır.
  • Sinyal Bütünlüğü: Düşük sinyal kaybının kritik olduğu yüksek frekanslı mikrodalga uygulamaları için idealdir.

3. Gelişmiş Kristal Büyüme ve İmalat Süreci

Üretim sürecimiz, ham maddeden bitmiş gofrete kadar toplam kalite kontrolünü sağlamak için dikey olarak entegredir.

  • Süblimasyon Büyümesi (PVT Yöntemi): 12 inçlik kristaller, Fiziksel Buhar Taşınımı (PVT) yöntemi kullanılarak büyütülür. Yüksek saflıkta SiC tozu, hassas bir şekilde kontrol edilen bir vakum ve termal gradyan altında 2000°C'yi aşan sıcaklıklarda süblime edilir ve yüksek kaliteli bir tohum kristali üzerinde yeniden kristalleşir.
  • Hassas Dilimleme ve Kenar Profillendirme: Büyüme sonrası, kristal külçeler gelişmiş çok telli elmas testere kullanılarak gofretlere dilimlenir. Kenar işleme, yontmayı önlemek ve taşıma sırasında mekanik sağlamlığı artırmak için hassas pah kırma içerir.
  • Yüzey Mühendisliği (CMP): Uygulamaya bağlı olarak, Si yüzeyinde Kimyasal Mekanik Parlatma (CMP) kullanırız. Bu işlem, yüksek kaliteli epitaksiyel büyümeyi kolaylaştırmak için tüm yüzey altı hasarı gidererek atom ölçeğinde pürüzsüzlük ile bir "Epi-Hazır" yüzey elde eder.

4. Teknik Özellikler ve Tolerans Matrisi
Öğe N-Tipi Üretim N-Tipi Kukla SI-Tipi Üretim
Polimorf 4H 4H 4H
Doping Tipi Azot (N-tipi) Azot (N-tipi) Yarı yalıtkan
Çap 300 ± 0,5 mm 300 ± 0,5 mm 300 ± 0,5 mm
Kalınlık (Yeşil/Trans) 600/700 ± 100 μm 600/700 ± 100 μm 600/700 ± 100 μm
Yüzey Yönü 4.0° yönünde <11-20> 4.0° yönünde <11-20> 4.0° yönünde <11-20>
Yön Doğruluğu ± 0,5° ± 0,5° ± 0,5°
Birincil Düz Çentik / Tam yuvarlak Çentik / Tam yuvarlak Çentik / Tam yuvarlak
Çentik Derinliği 1,0 – 1,5 mm 1,0 – 1,5 mm 1,0 – 1,5 mm
Düzlük (TTV) ≤ 10 μm Yok ≤ 10 μm
Mikro Boru Yoğunluğu (MPD) ≤ 5 adet/cm² Yok ≤ 5 adet/cm²
Yüzey İşlemi Epi-hazır (CMP) Hassas Taşlama Epi-hazır (CMP)
Kenar İşleme Yuvarlak Pah Pah Yok Yuvarlak Pah
Çatlak İncelemesi Yok (3mm hariç) Yok (3mm hariç) Yok (3mm hariç)

5. Kalite Güvencesi ve Metroloji

Yüksek Güçlü Cihazlar için Yüksek Kaliteli 4H-N Silikon Karbid Substratları (12-Inch/300mm) 1

Üretim hattınızda tutarlı performans sağlamak için çok adımlı bir denetim protokolü kullanıyoruz:

  1. Optik Metroloji: TTV, yay ve çarpma için otomatik yüzey geometrisi ölçümü.
  2. Kristal Değerlendirmesi: Polimorfik kapanımlar ve stres analizi için polarize ışık incelemesi.
  3. Yüzey Kusur Taraması: Çizikleri, çukurları ve kenar talaşlarını tespit etmek için yüksek yoğunluklu ışık ve lazer saçılması.
  4. Elektriksel Karakterizasyon: Merkezi 8 inç ve tam 12 inç bölgelerde temassız direnç haritalaması.

6. Sektör Lideri Uygulamalar
  • Elektrikli Araçlar (EV): Çekiş invertörleri, 800V hızlı şarj yığınları ve yerleşik şarj cihazları (OBC) için kritik öneme sahiptir.
  • Yenilenebilir Enerji: Yüksek verimli PV invertörleri, rüzgar enerjisi dönüştürücüleri ve enerji depolama sistemleri (ESS).
  • Akıllı Şebeke: Yüksek voltajlı DC iletim (HVDC) ve endüstriyel motor sürücüleri.
  • Telekomünikasyon: 5G/6G makro istasyonları, RF güç amplifikatörleri ve uydu bağlantıları.
  • Havacılık ve Savunma: Aşırı havacılık ortamları için yüksek güvenilirliğe sahip güç kaynakları.

7. Sıkça Sorulan Sorular (SSS)
S1: 12 inç SiC alt tabakası ROI'mi nasıl iyileştirir?

C: Çok daha büyük bir yüzey alanı sağlayarak, gofret başına önemli ölçüde daha fazla çip üretebilirsiniz. Bu, çip başına sabit işleme ve işçilik maliyetlerini azaltır ve nihai yarı iletken ürünlerinizi pazarda daha rekabetçi hale getirir.

S2: 4 derecelik eksen dışı yönlendirmenin faydası nedir?

C: düzlemine doğru 4° yönlendirme, yüksek kaliteli epitaksiyel büyüme için optimize edilmiştir, istenmeyen polimorfların oluşumunu önlemeye ve bazal düzlem dislokasyonlarını (BPD) azaltmaya yardımcı olur.<11-20>S3: İzlenebilirlik için özelleştirilmiş lazer işaretleme sağlayabilir misiniz?

C: Evet. Tam parti izlenebilirliğini sağlamak için SEMI standartlarına veya özel müşteri gereksinimlerine göre C tarafında (karbon yüzü) özelleştirilmiş lazer işaretleme sunuyoruz.

S4: Kukla Sınıfı, yüksek sıcaklıkta tavlama için uygun mudur?

C: Evet, N-tipi Kukla Sınıfı, Üretim Sınıfı ile aynı termal özellikleri paylaşır ve bu da onu termal döngüleri, fırın kalibrasyonunu ve taşıma sistemlerini test etmek için mükemmel hale getirir.

Yüksek Güçlü Cihazlar için Yüksek Kaliteli 4H-N Silikon Karbid Substratları (12-Inch/300mm) 2