Ürün ayrıntıları

Ev Ürünler

JGS1 JGS2 Wafers Optical Grade Fused Quartz Wafers 2-12 inç

Marka Adı:	ZMSH
Model Numarası:	JGS1 JGS2 gofret
Adedi:	25
fiyat:	by case
Teslim Zamanı:	2-4 hafta
Ödeme Şartları:	T/T

Ayrıntılı Bilgiler

Ürün Açıklaması

Ayrıntılı Bilgiler

Menşe yeri:

Çin

Sertifika:

rohs

Yoğunluk:

2.2g/cm³

Mohs Sertliği:

6-7

Sıkıştırma mukavemeti:

1100

Dielektrik sabiti (10GHz):

3.74

Kayıp Faktörü (10GHz):

0.0002

Gerinim noktası:

1080

Termal iletkenlik (20 ℃):

1.4

Başvuru:

Yarı iletken litografi, fiber optik iletişim

Ambalaj bilgileri:

100 dereceli temizlik odasında paket

Vurgulamak:

JGS1 erimiş kuvars levhaları

JGS2 optik kalitesi waferleri

2-12 inç erimiş kuvars plaka

Ürün Açıklaması

JGS1 JGS2 Wafer Özeti

JGS1 JGS2 Waferleri Optik Kalite Füzyon Kuvars Waferleri 2-12 inç

JGS1 JGS2 Wafers Optical Grade Fused Quartz Wafers 2-12 inç 0

JGS1 ve JGS2, her ikisi de yüksek saflıkta sentetik kuvars camı türleridir ve temel olarak silikon dioksitten (SiO₂) oluşur. Aralarındaki temel fark, imalat süreçlerinde ve ortaya çıkan saflık ve optik özelliklerindedir.

•JGS1, Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) yöntemi kullanılarak üretilir. Son derece düşük metalik safsızlık içeriğine (tipik olarak 0,1 ppm'nin altında kontrol edilir) ve çok düşük hidroksil (OH) içeriğine sahiptir (<5 ppm). Bu, derin ultraviyole (DUV) spektrumunda (örneğin, 10 mm kalınlığında bir boşluk için 185 nm dalga boyunda %85'in üzerinde geçirgenlik) olağanüstü geçirgenlik sağlar. Ayrıca, minimum iç kabarcık ve çizgiye sahiptir ve son derece yüksek optik homojenlik sunar.

•JGS2 tipik olarak hidrojen-oksijen alev füzyon yöntemi kullanılarak üretilir. Nispeten daha yüksek bir metalik safsızlık içeriğine (yaklaşık 1 ppm) ve daha yüksek bir hidroksil içeriğine (tipik olarak 30-50 ppm) sahiptir. Bu, ultraviyole (UV)'den yakın-kızılötesi (NIR) spektrumuna (tipik olarak 220 nm dalga boyunda >%80 geçirgenlik) kadar iyi bir performans sağlar, ancak 2600-2800 nm aralığında önemli bir emilim bandı sergiler. İç yapısı, küçük kabarcıklar, granüler yapılar veya dönme çizgileri içerebilir.

Basit bir ifadeyle, JGS1, nihai UV geçirgenliğinin ve ultra yüksek performansın ("yüksek saflık") peşinden koşarken, JGS2, çoğu UV ve görünür ışık uygulamasının ihtiyaçlarını karşılarken daha uygun maliyetli bir seçenek sunar.

Kuvars Wafer JGS1 JGS2 Temel Özellikleri

Sezgisel bir karşılaştırma için, JGS1 ve JGS2'nin temel özellikleri aşağıdaki tabloda özetlenmiştir.

Karakteristik Boyut	JGS1 (Uzak Ultraviyole Optik Kuvars Camı)	JGS2 (Ultraviyole Optik Kuvars Camı)
Optik Geçirgenlik Aralığı	185 nm - 2500 nm	220 nm - 2500 nm
Geçirgenlik @185nm/220nm	>%85 @185nm (10mm kalınlığında)	>%80 @220nm (10mm kalınlığında)
2600-2800nm Emilimi	Güçlü emilim bandının varlığı	Güçlü emilim bandının varlığı
Metalik Safsızlık İçeriği	Son Derece Düşük (yaklaşık 0,1 ppm)	Nispeten Düşük (yaklaşık 1 ppm)
Hidroksil (OH) İçeriği	Çok Düşük (<5 ppm)	Daha Yüksek (30-50 ppm)
İçsel Kusurlar	Çok az kabarcık ve çizgi, son derece yüksek optik homojenlik	Küçük kabarcıklar, granüler yapılar veya dönme çizgileri içerebilir
Kırılma İndeksinin Termal Katsayısı (dn/dT)	Nispeten Daha Yüksek	Daha Düşük (örneğin, ~1.2×10⁻⁶/℃ @1550nm), üstün termal kararlılık
Yüzey Mikro-Pürüzlülüğü	Son Derece Düşük (RMS 0,2 nm'ye ulaşabilir), λ/20 işleme gereksinimleri için uygun	HF işleminden sonra yüksek yüzey hidroksil yoğunluğu, kaplama için ideal bir arayüz sağlar
Tipik Üretim Süreci	Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD)	Hidrojen-Oksijen Alev Füzyonu

Yukarıdaki tablodaki temel özelliklerin ötesinde, aynı zamanda bazı mükemmel ortak nitelikleri paylaşırlar:

•Yüksek Isı Direnci: Yaklaşık 1683°C yumuşama noktası, 1100°C'lik sürekli çalışma sıcaklıklarına dayanabilir.

•Düşük Termal Genleşme Katsayısı: Yaklaşık 5.15×10⁻⁷/℃ (100°C'de), iyi termal kararlılık gösterir.

•İyi Kimyasal Kararlılık: Çeşitli asitlere ve alkalilere karşı dayanıklıdır.

•Nispeten Yüksek Mekanik Mukavemet: Yaklaşık 7 Mohs sertliği.

JGS1 JGS2 Kuvars wafer Ana Uygulamaları

JGS1 JGS2 Wafers Optical Grade Fused Quartz Wafers 2-12 inç 1

Eşsiz özellikleri nedeniyle, JGS1 ve JGS2 farklı üst düzey alanlarda kullanılır.

JGS1 Uygulamaları (Nihai UV Performansının Peşinden Koşmak)

Son derece yüksek UV geçirgenliği ve ultra düşük safsızlıkları nedeniyle, JGS1 öncelikle şunlarda kullanılır:

Yarı İletken Litografi: Derin Ultraviyole (DUV) litografi sistemlerindeki optik bileşenler (örneğin, lensler, maske plakaları) için önemli bir malzemedir. Saflığı, çip üretiminin çizgi genişliğini ve verimini doğrudan etkiler.
Üst Düzey UV Lazer Sistemleri: Yüksek enerjili lazer radyasyonuna dayanabilen, eksimer lazerlerde ve UV lazer işleme ekipmanlarında optik pencereler ve lensler üretmek için kullanılır.
Hassas Optik Algılama ve Algılama: Ozon izleme sensörlerinin, UV spektrometrelerin ve derin UV iletimi gerektiren diğer senaryoların temel optik bileşenlerinde kullanılır.
Optik İletişim Filtre Cihazları: Yoğun Dalga Boyu Bölmeli Çoğullama (DWDM) sistemlerinde, ultra düşük kaybı ve mükemmel spektral kararlılığı (C-bandında %<0,1/nm geçirgenlik dalgalanması), onu Dizi Dalga Kılavuzu Izgaraları (AWG) gibi filtrelerin alt tabakaları için son derece uygun hale getirir ve kanal aralığının 50 GHz'e sıkıştırılmasına izin verir.JGS2 Uygulamaları (Performans ve Maliyetin Dengelenmesi)

JGS1 JGS2 Wafers Optical Grade Fused Quartz Wafers 2-12 inç 2

JGS2'nin UV'den NIR bölgesine kadar olan performansı, ona geniş bir uygulama yelpazesi sunar:

Fiber Optik İletişim:

Optik konnektörler, optik izolatör pencereleri vb. üretmek için kullanılır. Üstün termal kararlılığı (daha düşük dn/dT), 1550 nm'de %99,998'e kadar yansıtma ile sıcaklık telafisi gerektiren optik aynalar için değerlidir.Endüstriyel UV İşleme:
Yüksek basınçlı cıva lambalarında ve UV sterilizasyon ekipmanlarında lamba yuvaları ve gözlem pencereleri ve ayrıca genel UV optik pencereleri için kullanılır.Genel Optik Bileşenler:
Mikroskoplar ve teleskoplar gibi optik aletlerde yaygın olarak bulunan lensler, prizmalar ve aynalar gibi geleneksel optik elemanların üretimi için uygun maliyetli bir seçimdir.Diğer Litografi İşlem Adımları:
En gelişmiş litografi çekirdek lenslerinde doğrudan kullanılmamasına rağmen, nihai performansın kritik olmadığı UV iletimi gerektiren diğer adımlarda veya ekipmanlarda kullanılabilir.Kuvars Wafer JGS1 JGS2 Fiziksel Özellik

Mekanik Özellikler

Yoğunluk/g/cm³
2.2	Mohs sertliği
6-7	Basınç Dayanımı
1100	Çekme Dayanımı
50	Bükülme Dayanımı
65	Burulma Dayanımı
30	Young Modülü
7.5 * 104 GPa	Poisson Oranı
0.17	Elektriksel Özellikler
Dielektrik Sabiti (10GHz)
3.74	Kayıp Faktörü (10GHz)
0.0002	Dielektrik Dayanımı (10GHz)
3.7 * 107 V·m	Özdirenç (20℃)
1 * 1020 Ω·m	Özdirenç (1000℃)
1 * 108 Ω·m	Termal Özellikler
Gerilme Noktası
1080	Tavlama noktası
1180	Yumuşama noktası
1630	Termal İletkenlik(20℃)
1.4	Özgül Isı (20 ℃)
670	(20–320℃)Genleşme Katsayısı:
30℃–600℃ 5.5 * 10-7	İlgili ürün önerileri

1. Camdan Geçiş (TGV) JGS1 JGS2 Safir BF33 Kuvars Özelleştirilebilir Boyutlar

2. Kuvars Cam Füzyon Silika Radyasyon Kalkanı Pencereleri JGS1/JGS2/JGS3 Şeffaf UV

Kuvars Wafer JGS1 JGS2

SSS 1. S: JGS1 ve JGS2 füzyon silika waferleri arasındaki fark nedir?

C: JGS1, son derece düşük metalik safsızlıkları ve hidroksil içeriği nedeniyle üstün derin ultraviyole (DUV) iletimi sunarken, JGS2, UV'den yakın-kızılötesi uygulamalar için uygun maliyetli performans sağlar, ancak daha yüksek OH içeriği ve 2600-2800 nm'de önemli bir emilim bandı ile.

2. S: JGS1'e karşı JGS2 waferleri için en uygun uygulamalar hangileridir?

C: JGS1, yarı iletken litografi ve eksimer lazerler gibi derin UV uygulamaları için idealdir, JGS2 ise aşırı DUV performansının kritik olmadığı genel UV optikleri, fiber iletişim ve endüstriyel UV işleme alanlarında yaygın olarak kullanılır.

Etiketler: #JGS1 JGS2 Waferleri, #Özel, #Optik Sınıf, #Füzyon Kuvars Waferleri, #2-12 inç

Etiketler:

Galyum Nitrür Gofret

Safir Gofret

SiC Substrat

Safir Optik Pencereler

IC Silikon Gofret

Sentetik Safir Çubuk

Sigortalı Kuvars Levha

Safir Parçaları

Sentetik Taş

Yarıiletken Ekipmanı

LiNbO3 Gofret

GaAs Gofret

İndiyum Fosfür Gofret

Seramik yüzey

laboratuvar ambalajı