Silikon karbid seramik çak/tepsisi, yarı iletken, LED, fotovoltaik ve diğer hassas üretim alanlarında kullanılan, esas olarak waferlerin sabitlenmesi ve taşınması için kullanılan yüksek performanslı bir armatürdür.safir substratları, silikon levhalar ve diğer malzemeler. Temel malzemesi hassas işleme ile üretilen silikon karbid (SiC), mükemmel fiziksel ve kimyasal özelliklere sahiptir,ve yüksek hassasiyet ve yüksek istikrar işleme ihtiyaçlarını karşılayabilir.
Ürün Parametresi
| (Materyal mülkiyet) |
(Birim) |
(ssic) |
| (SiC içeriği) |
|
(Wt) % |
>99 |
| (Ortalama tahıl boyutu) |
|
Mikron |
4-10 |
| (Densite) |
|
kg/dm3 |
>3.14 |
| (Görünen gözeneklilik) |
|
%1 |
<0.5 |
| (Vickers sertliği) |
HV 0.5 |
GPa |
28 |
*()
Eğilme gücü* (üç puan) |
20oC |
MPa |
450 |
| (Sıkıştırma gücü) |
20oC |
MPa |
3900 |
| (Elastik Modulus) |
20oC |
GPa |
420 |
| (Kırılma sertliği) |
|
MPa/m'% |
3.5 |
| (Isı iletkenliği) |
20°oC |
W/(m*K) |
160 |
| (Resiflik) |
20°oC |
Ohm.cm |
106-108 |
(Termal genişleme katsayısı) |
A(RT**...80oC) |
K-1*10-6 |
4.3 |
(En yüksek çalışma sıcaklığı) |
|
ooC |
1700 |
Ürün özelliği
1.Ultra yüksek sertlik ve aşınma direnci: silikon karbid sertliği elmaslara yakın, mükemmel aşınma direnci, uzun süreli yüksek dayanıklılık işlemine dayanabilir, hizmet ömrünü önemli ölçüde uzatabilir.
2Mükemmel termal yönetim performansı: high thermal conductivity and low thermal expansion coefficient to ensure rapid heat dissipation in high temperature environments and maintain dimensional stability to avoid deformation caused by thermal stress.
3Mükemmel kimyasal kararlılık: güçlü korozyon direnci, asitlere, alkalilere ve çeşitli kimyasal çözücülere dayanabilir, zorlu süreç ortamına uygundur.
4Yüksek düzlük ve yüzey bitiş: Hassas işleme sonrası, yüzey düzlüğü mikron seviyesine kadar, işleme sırasında yüksek hassasiyeti ve düşük kirliliği sağlar.
Ürün uygulaması
Yarım iletken üretiminde, silikon karbid seramik çak, yüksek hassasiyetli işleme güvence vermek için wafer kesimi, cilalama, litografi ve diğer önemli işlemler için kullanılabilir.LED üretiminde safir substrat işleme için bir rulman platformu olarak, kesme, öğütme ve epitaksyal büyümeyi destekler.
Ek olarak, silikon karbid seramik çaklar, CVD ve PVD gibi yüksek sıcaklıklı ekipmanlarda tepsiler olarak kullanılır.Aşırı ortamlara dayanabilmek ve istikrarını korumak için yüksek sıcaklıklı işlemler kullanmakFotovoltaik endüstride, işleme verimliliğini ve verimini artırmak için silikon levha kesimi ve ince film güneş hücresi imalatı için kullanılır.
Ürün gösterimi
Mesajınız 20-3.000 karakter arasında olmalıdır!
