Marka Adı: | ZMSH |
Model Numarası: | SiC Yüzey |
Teslim Zamanı: | 2-4 Hafta |
Ödeme Şartları: | T/T |
SiC wafer, Silisyum Karbür Wafer, SiC Alt Katman, Silisyum Karbür Alt Katman, P Sınıfı, D Sınıfı, 2inç SiC, 4inç SiC, 6inç SiC, 8inç SiC, 12inç SiC, 4H-N, 4H-SEMI, 6H-N, HPSI tipi, AR Camları, Optik Sınıf
4H-SEMI SiC Hakkında
4H-SEMI SiC Tanımı
Silisyum Karbür (SiC), yüksek güçlü ve yüksek frekanslı uygulamalarda performansı ile tanınan çok yönlü bir yarı iletkendir.
Geniş bant aralığı, yüksek voltaj ve sıcaklıklarda verimli çalışmayı sağlar, bu da onu güç elektroniği, RF cihazları ve zorlu ortamlar için uygun hale getirir.
SiC, güvenilirliği ve verimliliği nedeniyle otomotiv ve enerji gibi endüstriler için ayrılmaz bir parçadır.
Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) ve Fiziksel Buhar Taşınımı (PVT) gibi gelişmiş üretim yöntemleri, yüksek kaliteli, dayanıklı bileşenler sağlar.
SiC'nin benzersiz özellikleri aynı zamanda kısa dalga boylu optoelektronik, yüksek sıcaklık ortamları, radyasyon direnci ve zorlu elektronik sistemler için idealdir.
ZMSH, 6H ve 4H tipleri dahil olmak üzere çeşitli SiC wafer'ları sunar, N tipi, SEMI tipi veya HPSI tipi fark etmeksizin, büyük ölçekli üretim süreçleri aracılığıyla yüksek kalite, istikrarlı tedarik ve maliyet etkinliği sağlar.
Özellikleri 4H-SEMI SiC
4 İnç Çaplı 4H Yarı Yalıtkan Silisyum Karbür Alt Katman Özellikleri | ||
ALT KATMAN ÖZELLİĞİ | Üretim Sınıfı | Yapay Sınıf |
Çap | 50.8.0 mm +0.0/-0.38 mm | |
Yüzey Yönelimi | on-axis: {0001} ± 0.2° | |
Birincil Düz Yönelimi | <11-20> ± 5.0˚ | |
İkincil Düz Yönelimi | Birincil'den 90.0˚ CW ± 5.0˚, silikon yüzü yukarı | |
Birincil Düz Uzunluğu | 32.5 mm ± 2.0 mm | |
İkincil Düz Uzunluğu | 18.0 mm ± 2.0 mm | |
Wafer Kenarı | Pah | |
Mikroboru Yoğunluğu | ≤5 mikroboru/cm2 | ≤50 mikroboru/cm2 |
Yüksek Yoğunluklu Işıkla Politipler Alanları | İzin verilmez | ≤%10 alan |
Direnç | 0.015~0.028Ω·cm | (alan %75) |
0.015~0.028Ω·cm | ||
Kalınlık | 350.0 μm ± 25.0 μm veya 500.0 μm ± 25.0 μm | |
TTV | ≤10 μm | ≤15 μm |
EĞİLME (mutlak değer) | ≤25 μm | ≤30 μm |
Bükülme | ≤45 μm | |
Yüzey İşlemi | Çift Taraf Parlatma, Si Yüzey CMP (kimyasal parlatma) | |
Yüzey Pürüzlülüğü | CMP Si Yüzey Ra≤0.5 nm | Yok |
Yüksek Yoğunluklu Işıkla Çatlaklar | İzin verilmez | |
Dağınık Aydınlatma ile Kenar Yontmaları/Çentikler | İzin verilmez | Adet.2 <1.0 mm genişlik ve derinlik |
Toplam Kullanılabilir Alan | ≥%90 | Yok |
Not: Yukarıdaki parametreler dışındaki özelleştirilmiş özellikler kabul edilebilir. |
4H-SEMI SiC'nin daha fazla örneği
*Özelleştirilmiş talepleriniz varsa lütfen bizimle iletişime geçmekten çekinmeyin.
Benzer ürün önerileri
2.4H-N Silisyum Karbür SiC Alt Katman 8 inç Kalınlık 350um 500um P sınıfı D sınıfı SiC wafer
SSS
1. S: 4H-SiC Semi, wafer'larının kalitesini nasıl sağlar?
C: 4H-SiC Semi, yüksek kaliteli wafer'lar sağlamak için Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) ve Fiziksel Buhar Taşınımı (PVT) dahil olmak üzere gelişmiş üretim teknikleri kullanır ve sıkı kalite kontrol süreçlerini takip eder.
2. S: 4H-N SiC ve 4H-SEMI SiC arasındaki temel fark nedir?
C: 4H-N SiC ve 4H-SEMI SiC arasındaki temel fark, 4H-N SiC'nin (Azot katkılı) n-tipi yarı iletken silisyum karbür olması, 4H-Semi SiC'nin ise çok yüksek dirençli olacak şekilde işlenmiş yarı yalıtkan silisyum karbür olmasıdır.
Etiketler: #4H-SEMI, #SiC Alt Katman, #2 İnç, #Kalınlık 350um 500um, #Prime/Yapay Sınıf, #AR Camları, #Optik Sınıf